单晶金属原子级制造研究取得进展

Step-Eva方法交替进行低剂量沉积与暂停，使原子扩散和晶畴并合有更多时间，避免连续沉积中快速成核带来的结构问题。

团队已在铋、银、铟等金属中验证，并获得较平整、有序的金属半导体界面，为降低接触电阻及原子级电子器件制造提供材料方案。